快科技6月4日音尘，据媒体报说念，比利时微电子询查中心（IMEC）与阿斯麦（ASML）晓示在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设聚集High-NA EUV光刻施行室（High NA EUV Lithography Lab）。

该施行室经过多年的经心构建与集成，现已全面准备就绪，将为各人跳跃的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和树立供应商提供顶端期间解救。

施行室内的中枢树立为一台原型高数值孔径EUV扫描仪（TWINSCAN EXE：5000），以及与之配套的措置和计量器具，这些器具将共同助力改日芯片制造的冲突。

这次聚集施行室的通达，被视为High-NA EUV期间深广量出产准备经过中的遑急里程碑。业界展望，跟着该期间的不断进修和提高，将在2025-2026年时辰迎来大畛域的量产哄骗。

值得一提的是，阿斯麦此前已公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机。这款光刻机体积庞大，罕见于一台双层巴士，分量更是高达150吨。

由于其庞大的体型和复杂的拼装经过，该树立需要被分装在250个单独的板条箱中进走输送，自大了其在制造和输送经过中的突出挑战。

尽管High NA EUV光刻机的制酿资本腾贵，据贯通其售价高达3.5亿欧元（约合东说念主民币27亿元），但其在半导体制造畛域的价值无可权衡。它将成为各人三大晶圆制造厂兑现2nm以下先进制程大畛域量产的必备兵器。